硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到-种平衡。
如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面产生高损伤层。
制备高浓度的氧化抛光液想要优异的抛光效果，必须要氧化粉在抛光液体系中，具备非常好的悬浮性.分散性，否则如果分散性不好，容易导致有大
颗粒，或者悬浮性不好，抛光布怎么用，都会影响抛光的效果，严重的话会损坏机器，因此做好氧化抛光液粉体的悬浮性和分散性需要加入特定的分散剂或者悬浮剂来
解决这个难题。
当用酸、碱调节PH值时，玻璃抛光布，电离出来的阴、阳离子使得氧化颗粒周围的电荷平衡发生变化，带正电荷时zet8电位变为正值， 带负电荷时则为负值，再添加
分散剂时，氧化分散剂电离出大量电负离子，吸附在颗粒表面，明显增大颗粒表面的电负性。同时添加分散剂和PH调节剂，分散剂为主要影响因素，分
散剂电离出的大量负离子吸附在颗粒表面，中和颗粒表面原有的正电荷或增加表面的负电荷，使颗粒表面整体带负电，抛光液的悬浮性变好。
工业抛光工艺中，多选用较弱的酸碱性或者加入防止元件表面被酸碱腐蚀的保护试剂，保证氧化抛光液的性能不会被PH值破坏。
优抛光布良的洁净能力及污垢；先进的涂布技术及特殊设计结构，舟山抛光布，能有效预防涂层的脱落；精选的磨料及布基能有效避免划伤。应用编辑TFT-LCD液晶面板制程中玻璃基板表面的清洁，清洁对象包括灰尘、污染物，Mark笔笔迹、指纹，密封残胶，玻璃碎屑。砂纸，具有良好的防水性、耐久性、寿命长。表面砂粒均匀，的研磨特性，可以地减少了样品的变形。背胶砂背面为透明PET离型膜，便于清晰的看清砂纸粒度，且具有适当的粘性，使用后不残胶等优点。
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