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视频作者：青州净源水处理设备有限公司
工业纯水设备主要用途：1、制取电子工业生产如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等工艺所需的纯水、高纯水；2、制取热力、火力发电锅炉，厂矿企业中、低压锅炉给水所需软化水、除盐纯水；3、制取工业所需的医用大输液、、药剂、生化制品纯水、医用无菌水及人工透析用纯水等；4、制取饮料（含酒类）行业的饮用纯净水、蒸馏水、矿泉水，酒类酿造水和勾兑用纯水；5、海水、苦咸水制取生活用水及饮用水；6、制取电镀工艺用去离子水；电池（蓄电池）生产工艺的纯水；汽车、家用电器、建材产品表面涂装、清洗沌水；镀膜玻璃用纯水；纺织印染工艺所需的除硬除盐水；7、石油化工业如化工反应冷却水；化学药剂、化肥及精细化工、化妆品制造过程用工艺纯水；8、宾馆、楼宇、社区机场房产物业的供水网络系统及游泳池水质净化；9、线路板、电镀、电子工业废水处理及回用；10、生活、医院、制革、印染、造纸工业废水及垃圾渗沥液的处理；
反渗透设备特点设备特点 1、结构设计应简单、可靠、拆装简便。2、为便于拆装、更换、清洗零件，执行机构的设计尽量采用的标准化、通用化、系统化零部件。3、设备内外壁表面，要求光滑平整、无死角，容易清洗、灭菌。零件表面应做镀铬等表面处理，以耐腐蚀，防止生锈。设备外面避免用油漆，以防剥落。4、制备纯化水设备应采用低碳不锈钢或其他经验证不污染水质的材料。制备纯化水的设备应定期清洗，并对清洗效果验证。5、水接触的材料必须是低碳不锈钢或其他经验证不对水质产生污染的 材料。制备水的设备应定期清洗，并对清洗效果验证。6、纯化水储存周期不宜大于24小时，其储罐宜采用不锈钢材料或经验证无毒，耐腐蚀，不渗出污染离子的其他材料制作。保护其通气口应安装不脱落纤维的疏水性滤器。储罐内壁应光滑，接管和焊缝不应有死角和。应采用不会形成滞水污染的显示液面、温度压力等参数的传感器。对储罐要定期清洗、消毒灭菌，并对清洗、灭菌效果验证。7、制药用水的输送1）纯化水和制药用水宜采用易拆卸清洗、消毒的不锈钢泵输送。在需用压缩空气或氮气压送的纯化水和水的场合，压缩空气和氮气须净化处理。2）纯化水宜采用循环管路输送。管路设计应简洁，二级反渗透纯化水设备，应避免盲管和死角。管路应采用不锈钢管或经验证无毒、耐腐蚀、不渗出污染离子的其他管材。阀门宜采用无死角的卫生级阀门，输送纯化水应标明流向。3）输送纯化水和水的管道、输送泵应定期清洗、消毒灭菌，包头反渗透纯化水设备，验证合格后方可投入使用。8、压力容器的设计，须由有许可证的单位及合格人员承担，须按中华人民共和国国家标准《钢制压力容器》（GB150-80）及'压力容器安全技术监察规程'的有关规定办理。
随着生活水平的提高，人们对生活用水的要求也相对提高。例如对水质的要求，我们以往使用的提纯水的设备无法去除水中的阴阳离子，而现在使用的半导体超纯水设备却可以做到这一点，双级反渗透纯化水设备，因此半导体超纯水设备被应用于各个领域，那么半导体超纯水设备的操作流程有哪些呢？
半导体行业用超纯水设备主要应用于半导体行业用水，该设备主要由预处理、反渗透、EDI模块和后处理装置组成，可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质，出水电阻率可以达到18兆欧以上，完全满足半导体行业用水需求。
半导体行业用超纯水设备工艺
1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象
2、预处理-一级反渗透-加药装置(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。
半导体行业用超纯水设备特点
1、整体化程度高、易于扩展、增加膜数量即可增加处理量。
2、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。
3、膜组件为复合膜卷制而成，表现出更高的溶质分离率和透过速率。
4、能耗低、水利用率高、运行成本低。
半导体行业用超纯水设备性能优势明显，能够连续稳定的制备品质优良的超纯水，不会因为树脂再生而停止运行，超纯水装置结构设计相对靠紧，占地面积小，反渗透纯化水设备有哪些，可以为企业节省很多空间。以上是关于半导体超纯水设备的介绍，相信大家在看完此文章后对半导体超纯水设备会有进一步的了解，从上面的介绍中我们可以看出半导体超纯水设备因不同的情况，工艺流程也会有所不同
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产品品牌：净源水处理
供货总量：不限
产品价格：议定
包装规格：不限
物流说明：货运及物流
交货说明：按订单