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二、显示器的驱动方式
无论是液晶显示还是OLED显示都分为主动显示和被动显示两大类。对于 LCD显示，分成 无源（被动）驱动显示LCD，如：Color-STN-LCD显示器，STN-LCD，TN-LCD等；有源（主动）驱动显示LCD，如：TFT－LCD。对于OLED显示，分成 无源（被动）驱动显示OLED（PMOLED）和 有源（主动）驱动显示OLED（AMOLED）。
无源（被动）驱动显示OLED或LCD通常只能同时显示200行以下，因此要显示更多的行数以达到高清晰度，就要采用有源（主动）驱动显示方式，即TFT-LCD、AMOLED。有源（主动）驱动显示方式包含TFT制作技术。
三、TFT薄膜技术
1．非晶硅薄膜。非晶硅薄膜晶体管技术是70年代提出的。经过各国科学家近30年的不懈努力， 如今第七代以上液晶显示器（LCD）生产线已全部实现自动化，工业生产技术相当成熟。已经发展成为当今世界液晶显示器的主品，未来发展的目标是更大的屏幕尺寸和更低的生产成本。
非晶硅TFT技术，其优点是制备工艺成熟，相对简单，成品率高，适合于大面积生产。其缺点是TFT只有N型器件，迁移率只有 0.5-1.0cm2/Vs。因此，采用非晶硅TFT工艺，很难制备、全集成的超薄型结构紧凑的显示器模块。非晶硅TFT技术不能用于高分辨率的有源驱动OLED显示屏
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传统的阴极射线管显示器，后面总是拖着一个笨重的射线管。TFT液晶屏突破了这一限制，给人一种全新的感觉。传统显示屏是通过电子发射电子束到屏幕，因而显像管的管颈不能做得很短，当屏幕增加时也必然增大整个显示器的体积。而TFT液晶屏通过显示屏上的电极控制液晶分子状态来达到显示目的，即使屏幕加大，它的体积也不会成正比的增加，而且在重量上比相同显示面积的传统显示器要轻得多。
薄膜晶体管(就是我们经常所说的TFT)：经常说的TFT-LCD，其实际上指的就是这个薄膜晶体管，它的作用类似于开关，TFT能够控制IC控制电路上的信号电压，并将其输送到液晶分子中，决定液晶分子偏转的角度大小，因此其是非常重要的一个部件。
液晶分子层：其是改变光线偏光状态重要的元素，通过电力和弹性力共同决定其排列和偏光状态。
彩色滤光片：通过液晶分子偏转的光线只能显示不同的灰阶，但是不能提供红、绿、蓝(RGB)三原色，而彩色滤光片则由RGB三种过滤片组成，通过三者混喝调节各个颜色与亮度。液晶面板中每一个像素由红、绿、蓝3个点构成，每种颜色的点各自拥有不同的灰阶变化。
框胶;其就是让液晶面板中上下两层玻璃基板能够牢固的黏在一起，旋钮屏智能控制显示模块升级，并将整个内部系统与外接“隔绝”，防止灰尘进入影响色彩效果。
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TFT-LCD open cell前段制程与半导体制程非常相似，主要分成四个步骤：
1.利用沉淀形成gate metal。首先在玻璃基板上涂布一层金属，然后涂上光阻胶，后通过暴光、显影、蚀刻和除胶而形成gate metal。涂布的金属材料主要成分为：钛（TI）、铝（AL）、钼（MO）和铬（CR）以及其混合物。
2.沉淀SI3N4（氮化硅）、a-SI（非晶硅）和N+a-si（N型硅）。
首先利用PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deition ) 技术分别涂布一层SI3N4、N+a-si和a-si，然后在N+a-si和a-si上涂布光阻胶，通过暴光、显影、蚀刻和除胶而形成所需形状。PECVD指的是等离子体增强化学气相沉积法，原理是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉淀出所期望的薄膜。 SI3N4、N+a-si和a-si三种材料充当的角色分别为：gate端和液晶存储电容的电解质、N型半导体和P型半导体。
液晶显示器在完成了制屏工艺后，还需要绑定驱动电路等部件才能实现显示。将液晶屏、驱动电路、柔性线路板（FPC)、印刷电路板板(PCB)、背光源、结构件绑定组装在一起的工艺称为液晶显示器的模块工艺，又称为模组工艺。根据绑定IC方式的不同，液晶显示模块工艺又可以分为：COB工艺、TAB工艺、COG工艺和COF工艺。
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